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全球对于EUV设备的需求不断上升:ASML三季度财务数据大涨

阅读:3877 作者:匿名 发布时间:2019-11-09 08:41:05

随着旧的深紫外光刻技术在7纳米/10纳米时代达到极限,极紫外光刻已经成为整个村庄的希望。TSMC基于euv开发了他们的7纳米工艺,现在已经证实它将用于几个新的手机处理器。三星还宣布,其基于euv的7纳米工艺已投入生产,并已生产出实用产品。英特尔早些时候还宣布,它将在7纳米时代使用euv工艺。

迄今为止,只有一家光刻设备制造商能够提供euv光刻设备,该工厂是业内著名的asml公司。他们本周发布了2019年第三季度的财务报告。数据显示,他们在第三季度收到了来自不同客户的23份euv光刻系统订单,这使他们在上一个财政季度达到了公司历史上最高的单季度预订量,总计51.11亿欧元,比上一季度数据高出80.72%。总收入和净收入数据也非常好,总收入达到29.87亿欧元,净收入达到6.27亿欧元。Asml在第三季度交付了7个euv光刻系统,使今年交付的euv光刻系统总数达到18个。

Euv是一个非常困难的过程,目前只有少数几个代工厂能够使用它。此外,因为只有asml是euv设备的供应商,所以世界上只有大约60个euv光刻工具,远远少于duv设备的数量。除了将euv技术应用于高密度处理器生产工艺之外,三星和sk Hynix也在考虑将euv引入dram生产,以将1x/1y纳米工艺提升到一个更高的水平。然而,随着主要半导体发电厂在规划未来工艺时使用euv技术,asml的性能将继续提高。

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